（研磨）抛光液需要知道的事项
发布时间：
2023/12/18 21:37
首先我们要了解设备的钩子，端面研磨机主要是侧面夹产品研磨，抛光液通过喷涂方式，不断喷在工件上旋转起到抛光作用，这样挂壁磨端面的方式是比较容易浪费抛光液，抛光液飞溅也会造成浪费。
修复组合：红蓝磨片可以轮流使用进行打磨，后抛光，际线：从特殊角度可以看到，用手摸不到的划痕，修复组合：用绿色磨片打磨，再打磨，或者直接打磨，划痕修复过程中，有持续的抛光液流出，研磨过程中洗掉玻璃粉，提高研磨时的剪切力，冷却玻璃，仍是替换玻璃来决议是找玻璃划痕修复公司来处理这儿主张客户根据自己的玻璃划痕危害情况。
有人问：端面研磨机和平面研磨机哪个更能节省抛光液成本？因为抛光液毕竟就是耗材，如果使用量太大，这样会增加不少抛光成本。
当然端面研磨机也有它的特点，只是在介省抛光液的这点来说，没有平面研磨机好，因此抛光液厂家都会建议客户使用平面研磨机对产品进行抛光工序。
平面研磨机主要是通过输送管道，将抛光液送到平面抛光盘上，抛光液能较好的停留在抛光盘上方，不易流失，这样研磨抛光过程中就不易浪费抛光液，且使用少量的抛光液就能研磨大量的产品，对于介绍抛光液成本来说，使用平面研磨机更好！
光垫和抛光液是抛光过程中用到的两种最主要的半导体材料。抛光液是超细固体研磨材料和化学添加剂的混合物，在化学机械抛光过程中，起到研磨晶圆、腐蚀晶圆表面的残留物的作用，而抛光垫的主要作用则是存储和运输抛光液、维持抛光环境；因此抛光过程中需要不断加注抛光液并更换抛光垫。目前，抛光液和抛光垫是化学机械抛光过程中价值量的两种材料，分别占比49%和33%。
答：公司具备自主研发、生产研磨粒子的能力，搭载公司自产研磨粒子的CMP抛光液产品符合客户端的使用需求。研磨粒子的自主制备对CMP抛光液产品的品质稳定、自主可控有很大帮助,也能从原料实现抛光液产品的定制开发,同时也带来了后续的成本优势。
答：公司CMP抛光液市场拓展有多个优势一是公司可以自主制备研磨粒子，此前研磨粒子主要由国外材料厂商供应，尤其在小众、重要的研磨粒子型号中定点供应，公司实现研磨粒子的自主制备对CMP抛光液产品的品质稳定、自主可控有很大帮助，也能从原料实现抛光液产品的定制开发，同时也带来了成本优势；二是公司在国内主流晶圆客户中有成功导入CMP抛光垫产品的基础，这也将加快CMP抛光液产品的拓展速度。
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