（研磨）抛光液用途都有哪些
发布时间：
2023/12/25 21:46
在最终抛光阶段，如果使用氧化硅抛光液，可以不加润滑液。但如果使用氧化铝抛光液，则需要加一些润滑液。因为氧化铝抛光液比较粘稠，研磨碎屑较多的情况下，是需要加一些润滑液的。另外，研磨抛光颗粒在随着研磨方向的变动过程中，会聚集在一起，成为大的颗粒，不单纯是原来的微粒等级了，因此通过润滑液的作用，使研磨抛光颗粒不要因为研磨环境的干燥而聚集在一起。
光液：是研磨材料和化学添加剂的混合物，可使晶圆表面产生一层氧化膜，再由抛光液中的磨粒去除，达到抛光的目的。
答：公司从CMP抛光液上游的核心原材料研磨粒子开始，布局多种制程系列的30余种CMP抛光液产品，其中氧化硅抛光液产品持续稳定获得订单，铝制程抛光液进入吨级采购阶段，其他各制程CMP抛光液产品覆盖全国多家客户也进入关键验证阶段，为明年的加速放量奠定基础。
根据应用的不同工艺环节，可以将抛光液分为硅/多晶硅抛光液、浅槽隔离（STI）抛光液、金属栅极抛光液、介电材料（二氧化硅、氮化硅）抛光液、钨抛光液、铜及铜阻挡层抛光液，以及用于三维集成的硅通孔（TSV）和混合键合抛光液等。抛光液特点为种类繁多，即使是同一技术节点根据不同客户的工艺技术要求也有不同配方，其主要原料包括纳米研磨颗粒、各种添加剂和溶剂等。其中，纳米研磨颗粒是决定抛光液性能的关键原料，约占抛光液价值的。
光液是包含研磨材料和化学添加剂的混合物的液体配方工艺材料，与抛光垫搭配使用，与抛光垫共同提供化学作用力与机械作用力，在CMP过程中可使晶圆表面产生一层氧化膜，再由抛光液中的磨粒去除，达到抛光的目的。
据了解，CMP抛光液核心原材料主要是研磨粒子，目前国内基本上是以日系和美系的原材料进口为主。过往研磨粒子是没有办法国产化的，因为这一块的技术难度还是非常高的。从抛光液上游核心原材料研磨粒子的开发开始，目前已经实现了超纯硅溶胶，水玻璃硅溶胶、氧化铝三类研磨粒子的自主制备，氧化铈研磨粒子的开发也在按计划推进中。在产能建设方面，武汉本部有5000吨的年产规模CMP抛光液产线，仙桃工业园年产2万吨CMP抛光液扩产项目及研磨粒子配套扩产项目等的产能建设正加紧进行中，力争明年夏季建设完成，为后期持续稳定放量奠定基础。
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